一、設備概況

1.1應用領域

可用于半導體新材料晶片、硅，砷化鎵、碳化硅，掩膜版、太陽能電池基片、藍寶石、鈮酸鋰、光學鏡片、磁盤、光盤、醫用玻璃基片等類似材料片子的高潔凈度沖洗甩干。可達到同類進口設備性能。

1.2外觀：

1）外形尺寸：長1059mm*寬959mm*高786mm

2）機身結構：不銹鋼骨架+進口PP板外殼

3）適用2”-8”晶圓加工

1.3工藝參數

1）PSC-X可視化觸摸控制系統，可存儲和運行九個可編程的配方，每個配方步驟時間0-999秒

2）旋轉速度：300-1000r/min

1.4設備配置

1）快速拆卸更換轉子（單螺栓）

2）超高潔凈閥門管件

3）無需氮氣，通過獨特設計的進風系統，經過超凈高效系統過濾后的新風，實現快速風干。

4）沖水清洗功能（可選配）

5）靜電消除裝置和電阻率檢測控制和探頭（可選配）

1.5動力參數

1）電氣：220V，3KW

2）CDA：Φ10氣管，壓力：0.25-0.3Mpa，流量：1L/min

3）DI：OD3/8管，壓力：0.3-0.4Mpa，流量：20-25L/min（無選配沖水功能無此項）

4）排水：OD32mm(UPVC)